四氟化碳（CF4）的应用

• 四氟化碳（CF₄）

四氟化碳又名四氟甲烷，无色无臭无味气体。分子量88.01。熔点-150℃。沸点 -128℃。密度1.96克/立方厘米 (-184℃)。四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强，四氟化碳还可用于金属冶炼和塑料行业等。