三氟化氮和微电子行业
三氟化氮分子式NF3 , 沸点-129℃, 气体密度3.17g/L(20℃)。在常温常压下为无色、无味的气体, 微溶于水。常温下三氟化氮化学性质较为稳定,与酸碱都不发生反应, 但在100℃时受碱作用慢慢分解, 在300℃下与水有明显反应, 在350℃时可离解成为二氟化氮与氟气。在高于900℃的温度下三氟化氮分解成单质。在加热条件下, 它能与金属发生反应, 反应物为高氧化态的氟金属化合物。
三氟化氮是微电子使用的特种气体,可用于多晶硅、氮化硅、硅化钨等半导体材料的蚀刻剂, 尤其是用于厚度小于1微米的集成电路材料的蚀刻;可在集成电路板和液晶显示器生产中起清洗作用;用作氟化氢-氟气高能化学激光器的氟源;利用其与氢气反应热大的特点, 用作一些特殊焊接气体使用;在核工业上可用于分离提纯铀和钚等。目前国内有五家三氟化氮生产工厂（含外资工厂）。
NF3
| 三氟化氮 | NF3 99.995% |
| 杂质 | |
| CF4 | ≤20 ppm |
| N2 | ≤5 ppm |
| O2+Ar | ≤3 ppm |
| CO2 | ≤1 ppm |
| H2O | ≤1 ppm |