2023年10月23日，南大光电（乌兰察布）有限公司年产8400吨高纯电子级三氟化氮项目已完成备案。
该项目乌兰察布市集宁区，总投资6亿元，建设电解槽等生产装置及其他相应设施、起止年限是2024年5月到2028年12月，投产后可年产8400吨高纯电子级三氟化氮。2021年12月南大光电发布公告称，投资12元在察哈尔开发区建设高纯氟系电子材料项目，年产7200吨三氟化氮、500吨六氟化钨、1000吨六氟乙烷四氟化碳联产项目等生产线，其中年产500吨六氟化钨项目已于今年3月奠基。
三氟化氮常温下为无色、不溶于水的气体，不与水、稀酸和稀碱溶液反应，但在100℃下与碱性溶液接触时会缓慢水解生成亚硝酸盐及氟化物。三氟化氮是一种氟化剂，约200℃时，其反应性与氧相当；400℃以上时，其反应性与氟相似，可解离成NF2·和F·的自由基，在化学合成中可作为NF2·和F·自由基的供给源。
三氟化氮主要用作等离子蚀刻气体和反应腔清洗剂，适用于半导体芯片、平板显示器、光纤、光伏电池等制造领域。和其他含氟电子气体相比，三氟化氮具有反应快、效率高的优点，尤其在对氮化硅等含硅材质的蚀刻中，具有较高的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂，而且对表面无污染，能够满足加工过程需求。
受益于下游集成电路制造工厂产能扩张、集成电路制程技术节点微缩、3D NAND多层技术的发展，芯片的工艺尺寸越来越小，堆叠层数增加，集成电路制造中进行刻蚀、沉积和清洗的步骤增加，高纯三氟化氮的需求将快速增长，预计2025年全球需求增长至6.37万吨左右。