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• 丙烷(C₃H₈)

丙烷-C3H8,>99.99%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；另外,用于燃料、冷冻剂、制备乙烯与丙烯的原料。

三氯化硼（BCL₃）

三氯化硼的用途很广, 可用在硅半导体器件的扩散、离子注入、干法蚀刻 和制造太阳能电池元件等工艺过程; 也可用作生产光导纤维的基础材料 ,其纯度对所制器件和光导纤维的质量有直接影响; 也可用作苯乙烯聚合反应中的催化剂, 还可用于铝、锌、镁和铜合金的提纯过程; 用作铝、铁、锌、钨和蒙乃尔等合金的焊接焊剂; 用三氯化硼气体处理熔化的铝,可使铝铸件性能得到改善。铝晶格增长放慢、质地均匀, 提高铝的抗张强度; 三氯化硼还用于熄灭热处理炉内的镁火和火箭推进剂上 ; 可作为制取乙硼烷、耐高温金属硼化物等的中间体和热解氮化硼。

• 四氟化碳（CF₄）

四氟化碳又名四氟甲烷，无色无臭无味气体。分子量88.01。熔点-150℃。沸点 -128℃。密度1.96克/立方厘米 (-184℃)。四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强，四氟化碳还可用于金属冶炼和塑料行业等。

氪气（Kr）、氙气(Xe)、氖气(Ne)

这三种稀有气体在空气中的含量微少, 三种气体总共不到大气中的0.002%。其中氪、氙含量最少, 氪在空气中含量仅占1.14 ×10^–6 , 氙在空气中含量仅占0.09  ×10^–6 , 而氖在空气中含量也仅占18.18 ×10^-6 。

这三种稀有气体在照明、激光器、电子行业、中空玻璃、平板显示器、医疗麻醉、空间离子推进发动机等领域具有广泛应用。

四氧化二氮（N₂O₄）

在航天领域经常使用四氧化二氮作为推进剂，常温下的四氧化二氮是一种红棕色液体，冒红棕色的烟，具有强烈的刺激性气味，减压后变为二氧化氮（NO₂），属于强氧化剂。它可以装在气瓶内，一只钢瓶可以装45-50千克，大规模应用要用专用槽车运输，最多可以装载24吨。

四氧化二氮也是生产二甲基亚砜的氧化剂，二甲基亚砜在医疗医药、石油化工、有机合成、合成纤维、农药、涂料、染料、合成树脂、气体分离、电子工业、制防冻剂等行业中得到广泛应用。

四氧化二氮在压力释放后，或在较高温度下，分解成二氧化氮（NO2），呈现棕黄色的烟雾，降温后又会重回四氧化二氮的结构。

一氧化二氮，氧化亚氮（N₂O）应用领域

①医疗：笑气是医疗的麻醉剂之一，早期被用于牙科手术的麻醉，现在外科手术、牙科麻醉等方面仍有应用。

②食品：2015 年1 月国家批准了氧化亚氮为食品添加剂新品种，适用范围限定在“稀奶油( 淡奶油) 及其类似品的加工工艺”，奶油中添加了“笑气”之后，就会膨胀可塑，而且入口细腻。

③电子产品：高纯氧化亚氮被应用到微电子、光电子产品器件的生产中。在 半导体和发光二级管芯片的制造中，笑气经反应生成的SiO₂膜被沉淀到硅衬底上，作为缓冲层阻止有害杂质的进入。N₂O 纯度直接影响到SiO2膜纯度，并影响到电子器件性能的好坏。在平板显示领域，薄膜晶体管占据主流显示器市场的份额，但用OLED( 有机发光二极管) 生产出的显示屏已应用到高端产品中，未来会有更大的发展。在它们的制造上笑气起到了重要作用，显示器形成的绝缘保护膜，现在更多地用笑气与氧化硅的反应来实现。

④火箭推进和赛车加速：氧化亚氮基推进剂具有无毒、高比冲、使用系统简单等优异性能，可替代传统类推进剂用于多种航天器。在目前世界直线加速赛中，为提高发动机功率，是把N₂O 形成高压的液态后装入钢瓶中，在发动机内与空气一道充当助燃剂与燃料混合燃烧N₂O 可放出氧气和氮气，其中氧气是助燃气体，而氮气可协助降温，以此增加燃料燃烧的完整度提升动力。另外，氧化亚氮也可以用做检漏剂、制冷剂、防腐剂以及用作原子吸收光谱用的助燃剂。在工业上，用于地下的真空和带压管路的泄漏检测; 在实验室里，N₂O 和C₂H₂燃烧用于难溶元素的分析。